講演情報
[16p-P09-8]極低温で合成したフルオロカーボン薄膜のNEXAFS解析
〇北原 広貴1、菅野 拓海1、塩澤 佑一郎2、佐藤 哲也1 (1.梨大工、2.山梨県産技センター)
キーワード：
非晶質カーボン、極低温、NEXAFS
我々は水素化非晶質カーボン (a-C:H)やフッ素含有非晶質カーボン (a-C:F)を極低温下で成膜し、化学結合状態、光学定数等およびNEXAFS測定から得られたsp² / (sp² + sp³)値の相関等の諸物性を明らかにしてきた)。今回、ジフルオロメタン (CH₂F₂)にTMS (テトラメルシラン、Si(CH₃)₄)を添加し、a-C:Fのsp² / (sp² + sp³)値のSi濃度依存性について検討した。C-K吸収端およびSi-L吸収端全電子収量法 (TEY)、全蛍光収量法 (TFY)およびオージェ電子収法(AEY)により測定した。