講演情報
[16p-P11-12]サブミクロン垂直 MEMS プローブのための Mo ナノスパイアの検討
〇(M2C)島村 龍伍1、三角 啓1、安永 竣1、肥後 昭男1、中根 了昌1、三田 吉郎1 (1.東京大工)
キーワード：
MEMSテストプローブ、ナノスパイア、LSIテスト
微細化の進む集積回路のテストにて、MEMSプローブによるスケーティングはパッドの狭小化の妨げとなる。本研究ではモリブデン製尖塔構造を利用し、テストパッドの垂線方向から圧入・接触し面積縮小に寄与する「サブミクロン垂直MEMSプローブ」を提案する。ナノスパイアの金/クロム薄膜に対する圧入痕の解析から、圧入荷重に対して単調増加な痕径の応答が見られ、本構造のプローブとしての有用性が示唆される。