講演情報

10:00 〜 10:15

[17a-K101-5]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細ローカル配線形成技術

〇鈴木健太¹、上田哲也¹、笠嶋悠司¹、深沢正永¹、廣島洋¹、林喜宏¹、石田真幸²、舩吉智美²、日浦広実²、香川正行²、長谷川敬恭²、山本磨人² (1.産総研　SFRC、2.Canon)

ロジック半導体、ナノインプリントリソグラフィ、ダマシン配線

ナノインプリントリソグラフィ(NIL)はグリーンなリソグラフィ技術として注目されている。本研究ではナノインプリントとダマシン配線プロセスを用いて、ピッチ48nmのタングステン(W)配線TEGを試作し、形状評価とオープン/ショートの電気評価を行った。