講演情報
[17a-K101-7]UV/Dry Air 処理による半導体基板上フッ素系ポリマー膜の除去
〇(M1)小石 航平1、緒方 智成2、百瀬 健1、佐々木 満1 (1.熊大院自、2.熊大熊創)
キーワード：
半導体、フッ素系ポリマー、UV
半導体デバイス製造における低誘電率膜のプラズマエッチングでは，フッ素系ポリマー膜が形成される．従来の液体試薬による除去は環境負荷が課題である．本研究では，紫外線（UV）/Dry Air処理により，UV照射で生成した活性酸素を加熱したポリマー膜表面に供給し，物理的・化学的変化を起こして除去できることを示した．平坦Si基板上のポリマー膜で除去条件を検討し，パターン基板側壁のポリマー膜除去にも適用した．