[17a-K103-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

9:30 〜 9:45

[17a-K103-3] CLC (100) Grain-Boundary-Free Si 薄膜に見られる横縞

〇佐々木 伸夫^1,2、高山 智之²、浦岡 行治² (1.Sasaki Consulting、2.奈良先端大)

キーワード：

cwレーザ結晶化(CLC)、横縞

CW レーザによるa-Si薄膜の結晶化(CLC)により、(100)に配向した幅 0.2mm, 長さ >3-10mmのgrain-boundary-free な巨大単結晶が得られる。この膜内に、スキャン方向に対して縦縞と横縞が見られることがある。これらは、AFMで観察されるが、EBSDでは測定できない。縦縞の原因は、Hyperfine-sub-boundary によることを先に示した。本報告では、横縞の原因について述べる。横縞は、a-Siの固相成長によるexplosive crystallization の痕跡が、強いビームによるCLC成長の後にも残ったものと考えられる。