[17a-K103-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

11:15 〜 11:30奨励賞エントリー

[17a-K103-9] CF₄/H₂プラズマによるエピタキシャル成長したSi_0.7Ge_0.3/Si/Si_0.7Ge_0.3積層膜からのSiナノシートの形成

〇尾崎 孝太朗¹、堤 隆嘉²、石川 健治²、Yamamoto Yuji³、Wen Wei-Chen³、牧原 克典¹ (1.名大院工、2.名大低温プラズマ、3.IHP)

キーワード：

Siナノシート、GAA-FETs