講演情報
[17a-K301-1]光電気化学酸化反応を用いた窒化ガリウム基板の高能率研磨法の開発
～基板中の酸素不純物濃度分布と欠陥に由来する加工むらの抑制～
〇(DC)萱尾 澄人1、深川 達哉1、藤 大雪1、山田 純平1、山内 和人1、佐野 泰久1 (1.大阪大学)
キーワード：
窒化ガリウム、研磨、光電気化学酸化
窒化ガリウム基板の新たな高能率研磨法として紫外光照射による光電気化学（PEC）酸化反応を利用したPEC酸化反応援用型触媒表面基準エッチング法を提案する．本手法を用いることで高速に原子スケールでの平滑化を両立して実現した．更に加工中の基板表面の空乏層を制御することで、結晶中に不純物濃度分布むらや欠陥を有する基板を加工した場合に発生する加工むらの抑制を達成した．