講演情報
[17a-K304-5][第46回優秀論文賞受賞記念講演] 成膜プロセスにおける大規模パターンでのカバレッジおよび膜質分布の予測
〇久保井 信行1、松谷 弘康1、辰巳 哲也1、小林 正治1、萩本 賢哉1、岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)
キーワード：
成膜、膜質、モデリング
著者らは、大規模パターンでの成膜カバレッジ・膜質分布を高速で定量予測できるシミュレーションモデル開発を行った。本モデルを用いた解析から、低温PECVDで見られたSiN膜の柱状モフォロジーの形成メカニズムを明らかにし、膜質改善には短いガス滞在時間の実現が重要であるという低温成膜プロセスの制御方向性を示すことができた。講演では、本モデルをSiO2-PEALDへ活用した最新の報告も紹介する。