セッション詳細

[17a-K505-1~9]23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

2025年3月17日(月) 9:00 〜 11:30
K505 (講義棟)

[17a-K505-1]カスケード工程におけるSiウェーハ内部の酸素析出物分布のデータ同化

〇楠木 琢也1、阿部 諄汰1、永井 勇太1、須藤 治生1、岩城 浩也1、高須 理栄1、番場 博則1、泉妻 宏治1、前田 進2、関 翔太2 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン、2.アイクリスタル)

[17a-K505-2]半導体製造における企業間を跨いだデジタルツインによるウェーハ・デバイスプロセスの全体最適化

〇関 翔太1,4、中西 佑児1、松岡 毅1、前田 進1、髙石 将輝1、楠木 琢也2、永井 勇太2、永倉 大樹3、谷川 公一3、沓掛 健太朗4、宇治原 徹1,4 (1.アイクリスタル、2.グローバルウェーハズ・ジャパン、3.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、4.名大)

[17a-K505-3]半導体熱処理条件の最適化における既存条件を考慮した目的関数の検討

笠原 亮太郎1、〇沓掛 健太朗1,2、原田 俊太1、宇治原 徹1、関 翔太3、高石 将暉3、永井 勇太4 (1.名大、2.理研、3.アイクリスタル、4.グローバルウェーハズ・ジャパン)

[17a-K505-4]結晶成長の外挿に適した物理の知識に基づくベイズ最適化

〇若林 勇希1、小林 亘2、大塚 琢馬3、鄭 源宰2 (1.NTT 物性研、2.NTT 先デ研、3.NTT CS研)

[17a-K505-5]マルチフィデリティベイズ最適化によるミクロ構造最適化

〇栗田 智啓1 (1.名古屋大工)

[17a-K505-7]Enhancing an Autoregressive Generative Wafer Polishing U-net Model

〇Kevin Operiano1, Roberto Iaconi1, Riku Tanaka1, Fumiya Kawate1, Sepasy Saeed2, Yoshifumi Watanabe2 (1.Aixtal Corporation, 2.Mipox Corporation)

[17a-K505-8]乳鉢装着ロボットアームによる粉体粉砕と洗浄システム

〇(B)真下 美咲1、中島 優作1、武市 泰男1、小野 寛太1 (1.阪大 工)

[17a-K505-9]自律合金材料探索に向けたXRD 自動化の試み

〇寺嶋 健成1、王 威勝1,2、高野 義彦1,2 (1.NIMS、2.筑波大)