講演情報
[17p-K202-5]硝酸によるゲルマニウム化学酸化膜の低温形成
原田 京朝1、〇金島 岳1 (1.近大産業理工)
キーワード：
ゲルマニウム、化学酸化膜、GeO2
新たなチャネル材料として注目されているゲルマニウム(Ge)で，低温かつ簡易に酸化膜が形成できる方法として，硝酸を用いた化学酸化に注目した．硝酸(35%)に室温で浸漬したところGe試料の表面は荒れたが，電流-電圧特性を調べたところ，良好な絶縁性が得られていることが分かり，Ge酸化膜が形成された．さらに，濃度を低くすることで，極薄膜の形成を示唆する結果を得ることが出来たので報告する．