一般セッション(口頭講演)13 半導体：13.3 絶縁膜技術
[17p-K202-1~7]13.3 絶縁膜技術
2025年3月17日(月) 13:00 〜 14:45
K202 (講義棟)
女屋 崇(東大)
13:00 〜 13:15
〇布村 正太1、森田 行則1 (1.産総研)
13:15 〜 13:30
〇内田 遥太1、鬼塚 翔平1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
13:30 〜 13:45奨励賞エントリー
〇(B)高木 駿翼1、葉 文昌1 (1.島根大総合理工)
13:45 〜 14:00
〇鍬釣 一1、麻生 大聖1、王 冬2、山本 圭介2,3 (1.九大総理工学府、2.九大総理工研究院、3.熊大大学)
14:00 〜 14:15
原田 京朝1、〇金島 岳1 (1.近大産業理工)
14:15 〜 14:30
〇原田 星輝1、清水 玄1、橋本 優1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
14:30 〜 14:45
〇鈴木 拓光1、井上 拓紀1、石塚 啓太1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
