[17p-K202-1~7] 13.3 絶縁膜技術

14:15 〜 14:30

[17p-K202-6] 硫酸加水を用いたGe基板の低温酸化の検討

〇原田 星輝¹、清水 玄¹、橋本 優¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大院工)

キーワード：

MOSFET