[17p-K304-1~8] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

15:15 〜 15:30奨励賞エントリー

[17p-K304-7] ラジカルの付着確率が高アスペクト比ホール内の輸送に与える影響

〇(M1)来島 拓海¹、堤 隆嘉²、関根 誠²、井上 健一²、石川 健治² (1.名大院工、2.名大プラズマ)

キーワード：

付着確率、高アスペクト比エッチング

ラジカルの側壁保護膜に対する付着確率は高アスペクト比エッチングにおける粒子輸送解析において重要なパラメータのひとつである。そこで、微細孔を模擬したオリフィスのアスペクト比を変化させ、ラジカルの通過量のアスペクト比依存性を調査することで側壁付着確率を推定する新たな手法の確立に取り組んだ。ラジカルの側壁付着確率が実測に基づき推定され、その値が平板に対する付着確率の文献値より小さいことが確認された。