[17p-K304-1~8] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理 | 2025年第72回応用物理学会春季学術講演会

セッション詳細

一般セッション(口頭講演)8 プラズマエレクトロニクス：8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2025年3月17日(月) 13:30 〜 15:45

K304 (講義棟)

13:30 〜 13:45奨励賞エントリー

〇益子侑大¹、岩瀬拓¹、佐竹真¹、園田靖²、田中基裕²、小藤直行²、前田賢治² (1.日立製作所、2.日立ハイテク)

13:45 〜 14:00奨励賞エントリー

〇笠井大雅¹、松井都¹、庄子美南¹、猩々智康¹、三浦真²、桑原謙一² (1.日立研開、2.日立ハイテク)

14:00 〜 14:15奨励賞エントリー

〇(M2)松本響平¹、Jiawen Yu¹、花房宏明¹、東清一郎¹ (1.広大先進理工)

14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

〇鈴木涼平¹、小玉欣典¹、松田和久¹、釘宮克尚¹、萩本賢哉¹、岩元勇人¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ（株）)

14:45 〜 15:00

〇加藤有真¹、片岡淳司¹、斎藤僚²、飯野大輝¹、福水裕之¹、佐藤哲也²、栗原一彰¹ (1.キオクシア株式会社、2.山梨大・工)

15:00 〜 15:15

伊藤智子¹、〇唐橋一浩¹、浜口智志¹ (1.阪大院工)

15:15 〜 15:30奨励賞エントリー

〇(M1)来島拓海¹、堤隆嘉²、関根誠²、井上健一²、石川健治² (1.名大院工、2.名大プラズマ)

15:30 〜 15:45

〇中村昭平^1,2、谷出敦^1,2、木村貴弘^1,2、トラン　グエントラン²、井上健一²、石川健治² (1.SCREENホールディングス、2.名古屋大学)