[17p-K507-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

13:00 〜 13:15

[17p-K507-1] 屈折率分布型レンズアレイリソグラフィの厚膜レジストへの適用性

〇堀内 敏行¹、大塚 直幸¹、福原 豪晴¹、小林 宏史¹ (1.東京電機大学工)

キーワード：

屈折率分布型レンズアレイ、走査投影露光、厚膜レジスト

屈折率分布型レンズアレイを投影レンズとする走査投影露光は、広領域への線幅約15μm以上の大パターン形成に有効である。本報では、これ迄の膜厚1μm程度のパターン形成に加えて、流路デバイス、バイオセルなどの製作に便利な、50～100µmの厚膜レジストへの適用性とパターン形成限界を検討した。結像光線のぼけ量から解像度とアスペクト比の限界を推測し、実験で確かめた。厚膜レジストへも応用できることが分かった。