セッション詳細

[17p-K507-1~6]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2025年3月17日(月) 13:00 〜 14:45
K507 (講義棟)
山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)

[17p-K507-1]屈折率分布型レンズアレイリソグラフィの厚膜レジストへの適用性

〇堀内 敏行1、大塚 直幸1、福原 豪晴1、小林 宏史1 (1.東京電機大学工)
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[17p-K507-2]軟X線照射によるハロゲン化ポリスチレン架橋体生成とX線エネルギー依存性

〇中川 清子1、大原 麻希2、横谷 明徳2、宇佐美 徳子3 (1.都産技研、2.量研機構、3.高エネ研)
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[17p-K507-3]Characterization of Electron Beam Lithography-based Direct Patterning of PEDOT:PSS on Si, SOI, and SiO2Substrates

〇(D)Yandong Yang1, Shin'ichi Warisawa1, Reo Kometani1 (1.Univ. of Tokyo)
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[17p-K507-4]ナノインプリントにおける残膜エッチングプロセスの改善

〇川田 博昭1、山﨑 滉太1、舩戸 魁1、松山 哲也1 (1.大阪公立大工)
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[17p-K507-5]Laser-assisted direct glass imprinting(LADGI)における転写挙動に関する考察

〇(D)光田 健洋1,2、長藤 圭介1、中尾 政之1 (1.東大院工、2.AGC株式会社)
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[17p-K507-6]ナノインプリント法を用いた光電コパッケージ用曲面ミラー試作

〇渡邊 万絢1、森 智衆1、中村 文2、板谷 太郎2、前田 讓治1、天野 健2 (1.東京理科大学、2.産業技術総合研究所)
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