[17p-Y1311-1~9] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

13:45 〜 14:00

[17p-Y1311-3] RF窒素プラズマ照射によるβ - Ga₂O₃の窒素ドーピング

〇(B)阿多 翔大¹、市川 龍斗¹、古川 勝裕¹、相馬 永¹、吉村 武¹、長田 貴弘²、山下 良之²、小畠 雅明³、福田 竜生³、藤村 紀文¹ (1.大阪公立大工、2.物質・材料研究機構、3.原子力機構)

キーワード：

酸化ガリウム、ALD