2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

2026年第87回応用物理学会秋季学術講演会

セッション詳細

一般セッション(ポスター講演)6 薄膜・表面：6.1 強誘電体薄膜

[11a-PB3-1~10]6.1 強誘電体薄膜

2026年9月11日(金) 11:00 〜 12:30

PB3 (第2体育館)

英語発表

[11a-PB3-1]An electrode design strategy to minimize ferroelectric imprint effect

〇(D)YUWEI CHEN^1,6, DONGUUAN YU², CHUNWEI HUANG³, YUNGCHI SU¹, CHAORONG CHEN¹, WEICHEN HUNG¹, Bhagwati Prasad⁴, Ramamoorthy Ramesh⁵, YENLIN HUANG¹ (1.Department of Materials Science and Engineering, National Yang Ming Chiao Tung University, 2.Taiwan Semiconductor Research Institute, 3.Department of Materials Science and Engineering, Feng Chia University, 4.Department of Materials Engineering, Indian Institute of Science, Bangalore, 5.Department of Materials Science and Engineering, University of California, Berkely, 6.Institute for Material Research, Tohoku University)

[11a-PB3-2]AlNの極性反転境界のエネルギー的安定性に与えるSiとGeの影響

〇平田研二¹、新津甲大²、Anggraini Sri Ayu¹、上原雅人¹、秋山守人¹ (1.産総研、2.物材機構)

[11a-PB3-3]PLD法で作製した強誘電ハフニア膜の構造－特性相関

〇(M2)石川隼吉¹、進藤沙也佳¹、菅大介¹ (1.阪大院工)

[11a-PB3-4]HfO2-CeO2 系固溶体薄膜における相形成および分極挙動のサイズ効果

〇(M1)高野桜¹、横田幸恵¹、内田寛¹ (1.上智大理工)

[11a-PB3-5]単分子誘電体の薄膜におけるキャパシタ試作と電気特性評価

〇石井宏樹¹、中野佑紀¹、加藤智佐都¹、藤林将²、西原禎文^3,4 (1.株式会社マテリアルゲート、2.宇部高専、3.広島大院先進理工、4.広島大キラル国際研究拠点)

[11a-PB3-6]PbTiO₃/SrRuO₃/SrTiO₃(100)薄膜における極性スキルミオンの形成

〇小森駿正¹、小森祥央²、谷山智康¹ (1.名大理、2.大阪公立大工)

[11a-PB3-7]セグメントターゲット PLD法によるY_xAl_1-xN薄膜作製の検討

〇(M2)高木亮佑¹、岩崎光志¹、中嶋誠二¹、堀田育志¹、藤谷海斗¹ (1.兵庫県立大工)

[11a-PB3-8]ミストCVDを用いた絶縁体立体物への銅成膜

〇高橋勲¹、澤水悠佳¹、石川志緒利²、森本孝貴² (1.立命館大学、2.㈱クオルテック)

[11a-PB3-9]α相を主相としたナイロン11フィルムの圧電特性

〇嶌田知弥¹、児玉秀和²、小林遵栄¹、中嶋宇史¹ (1.東理大物工、2.小林理研)

[11a-PB3-10]振動型AlN圧電エナジーハーベスタ開発に向けたステンレス鋼基板上Pt(111)配向下地層の形成

〇天宮巧登¹、大口裕之¹ (1.芝浦工大理工)

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