[J114] マイクロナノ理工学：nmからmmまでの表面制御とその応用

10:15 〜 10:30

[J114-06] 一方向磁場印加形高速原子ビーム源の改良と照射特性評価

〇大島 京祐¹、野村 航¹、岡 智絵美¹、櫻井 淳平¹、秦 誠一¹ (1. 名古屋大学)

キーワード：

高速原子ビーム、表面活性化接合、常温接合、Arプラズマ、磁場印加、スパッタ