[J221] マイクロ・ナノ材料創成とそのデバイス応用

10:55 〜 11:10

[J221-04] 室温ナノインプリントにより形成したポリシルセスキオキサンナノパターンの硬化法

〇安井 学¹、西 義武¹、黒内 正仁¹、金子 智¹、三橋 雅彦¹ (1. 神奈川県立産業技術総合研究所)

キーワード：

Polysilsesquioxane、Electron beam irradiation、Room-temperature nanoimprinting

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