[J221] マイクロ・ナノ材料創成とそのデバイス応用

11:10 〜 11:25

[J221-05] 薄膜内部応力のポストプロセス測定デバイス（第１報）
～バーニヤスケールを利用した高精度測定の試み～

〇高瀬 駿¹、葦刈 佑季¹、岡 智絵美¹、櫻井 淳平¹、秦 誠一¹ (1. 名古屋大学)

キーワード：

MEMS、薄膜内部応力、内部応力測定、バーニヤスケール

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