[J221] マイクロ・ナノ材料創成とそのデバイス応用

11:25 〜 11:40

[J221-06] 薄膜内部応力のポストプロセス測定デバイス（第2報）
～平行板ばね採用デバイスの改良～

〇葦刈 佑季¹、高瀬 駿¹、岡 智絵美¹、櫻井 淳平¹、秦 誠一¹ (1. 名古屋大学)

キーワード：

薄膜内部応力、内部応力測定、MEMS、平行板ばね機構