講演情報

[H931-3am-12]2´水酸基にスルホンアミド修飾またはスルホネート修飾を有する5-メチルウリジン誘導体の合成および二重鎖形成能の評価

○瀧川 駿太朗1、友利 貴人1、植草 宏哉1、正木 慶昭1、清尾 康志1 (1. 東工大生命理工)
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キーワード:

アンチセンス核酸,二重鎖融解温度,修飾核酸,スルホンアミド修飾,スルホニルフルオリド修飾