セッション詳細
[21a-B205-1~10]3.6 レーザープロセシング(旧3.7)
2023年9月21日(木) 9:00 〜 11:45
B205 (市民会館)
谷 峻太郎(東大)、 長谷川 智士(宇都宮大)
[21a-B205-1]フェムト秒レーザーを用いたガラス表面への超親水性かつ高透過率条件の検討
〇森浦 健斗1、奈良崎 愛子2、玉木 隆幸3、渡邉 歴1 (1.立命館大理工、2.産総研、3.奈良高専)
[21a-B205-2]レーザー誘起気泡を用いた熱硬化性ポリマーの微細加工 (microFLIB)およびそのメカニズム解明
〇(M2)鳥羽 陽一1、藤嶋 亮介1、山田 壮平1、花田 修賢1 (1.弘前大理工)
[21a-B205-4]近赤外フェムト秒レーザパルス照射によるCu2O球状ナノ粒子の基板への接合条件探索
〇(B)水谷 桜輔1、Tran Duc Thuan1、Trung Vu Nguyen Kien1、溝尻 瑞枝1 (1.長岡技科大)
[21a-B205-5]透明フッ素樹脂材料CYTOPで作製した
3次元マイクロ流路チップによる高解像度細胞観察
〇半澤 未来1,2、小幡 孝太郎1、シマ フェリックス3、河野 弘幸1,4、尾笹 一成1、花田 修賢5、宮地 悟代2、宮脇 敦史1,4、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子、2.東京農工大学、3.INFLPR、4.理研 CBS、5.弘前大理工)
[21a-B205-10]ガス中レーザーアブレーションで作成されたZnO球状ナノ粒子の光学特性
〇(M1)坂手 裕紀1、谷口 光1、梅津 郁朗1、市田 正夫1、青木 珠緒1 (1.甲南大理工)