2025年第72回応用物理学会春季学術講演会
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一般セッション(ポスター講演)13 半導体：13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[15p-P09-1~2]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2025年3月15日(土) 16:00 〜 18:00
P09 (森戸記念体育館)
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[15p-P09-1]ナノサイズ電極形成に向けたHSQエッチバックプロセスのエッチングレート制御

〇藤井 健志1、藤井 香里1、陳 国海1、山田 健郎1 (1.産総研)
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[15p-P09-2]エピタキシャル成長したSi0.7Ge0.3およびSi薄膜におけるH2希釈CF4ガスによるドライエッチング -基板温度依存性-

〇尾崎 孝太朗1、佐分利 伊吹2、堤 隆嘉3、石川 健治3、Yamamoto Yuji4、Wen Wei-Chen4、牧原 克典1 (1.名大院工、2.名大工、3.名大低温プラズマ、4.IHP)
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