セッション詳細
[17a-K504-1~6]6.4 薄膜新材料
2025年3月17日(月) 9:30 〜 11:00
K504 (講義棟)
[17a-K504-1]高結晶性MgH2エピタキシャル薄膜の合成と基礎物性評価
〇(M2)下萬 祐暉1、間嶋 拓也2、松木 伸行3、原田 尚之4、中野 匡規1、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.京大院工、3.神奈川大工、4.物材機構)
[17a-K504-2]複合成膜手法により成膜された SiO2-TiO2混合膜の親水性の検討
〇佐々木 康詩郎1、室谷 裕志1、松平 学幸2 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)
[17a-K504-3]TiO2(001),(100)基板上に作製した(V,W)O2膜の金属絶縁体転移温度
〇村岡 祐治1、中村 匠汰2、横谷 尚睦1 (1.岡山大基礎研、2.岡山大院環境生命自然科学)
[17a-K504-4]光触媒能向上を志向した疑似単結晶骨格を有するナノ多孔性TiO2薄膜合成
〇鈴木 孝宗1、木内 堂暖1 (1.東京電機大)
[17a-K504-5]光電子ホログラフィによる高温スピンクラスターグラスFe3-xTixO4のスピン超秩序局所構造解析
〇山原 弘靖1、徳原 圭祐2、Md Shamim Sarker1、Ahamed EMK Ikball1、関 宗俊1、橋本 由介2、松下 智裕2、田畑 仁1 (1.東大院工、2.奈良先端大)
[17a-K504-6]次世代高速通信デバイスへの応用に向けたGdFe薄膜の高周波磁気特性に関する検討
〇鶴田 彰宏1、田丸 慎吾1、藤田 麻哉1 (1.産総研)