講演情報
[J221p-13]100 μmオーダの高精度で均一な厚さを持つフォトレジスト膜の成形手法の開発
〇野池 勇太1、鶴田 敏之2、冨士原 民雄2 (1. 東京都市大学大学院、2. 東京都市大学)
キーワード：
Photolithography、Uniform thick film、Microfluidics、Microengineering、Defoaming
Photolithography、Uniform thick film、Microfluidics、Microengineering、Defoaming