日本金属学会2025年秋期(第177回)講演大会
詳細検索

セッション詳細

国際シンポジウム

[IS]IS2 Recent Trends and Future Perspectives of Semiconductor Materials

2025年9月19日(金) 13:00 〜 15:20
A会場(工学部オープンホール)
座長:畑山 祥吾(産業技術総合研究所)、石川 史太郎(北海道大学)
※表示の講演時間には質疑応答時間も含みます。
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）
13:00 〜 13:30

[IS2.5]Ferroelectric Materials for Memory and Neuromorphic Device Applications

*Changhwan Choi1,2 (1. Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 04763, Korea, 2. Department of Semiconductor Engineering, Hanyang University, Seoul 04763, Korea)
13:30 〜 14:00

[IS2.6]Research on new transistor structures and materials in AIST toward 2 nm technology node and beyond

*Toshifumi Irisawa1 (1. National Institute of Advanced Science and Technology)
14:00 〜 14:15

休憩

14:15 〜 14:45

[IS2.7]Understanding Interesting Phenomena at the Joints of Electronic Products: Thermodynamic and Kinetic Driving Forces

*Sinn-wen Chen1,2,3 (1. Department of Chemical Engineering, National Tsing Hua University, 2. College of Semiconductor Research, National Tsing Hua University, 3. Center of High Entropy Materials, National Tsing Hua University)
14:45 〜 15:15

[IS2.8]Machine Learning Technology in SiC Solution Growth Method

*Toru UJIHARA1 (1. Nagoya Univ.)
15:15 〜 15:20

[Closing Remark]Closing Remark

Masao Tanabe1 (1.Shibaura Inst. of Tech)
カテゴリ一覧へ戻る