セッション詳細
[21p-B203-1]全ウエットプロセスによるSi原子層シートの創製に関する研究
―ウエットエッチングによるSOI層表面の構造制御―
〇(M1)橋本 龍人1、竹内 鉄朗1、稲垣 耕司1、有馬 健太1 (1.阪大院工)
[21p-B203-2]ナノカーボンの触媒作用を援用したGe表面の選択エッチング
~エッチング液に添加した酸化剤がエッチング特性に与える影響~
〇(M1)山本 聖也1、李 君寰1、稲垣 耕司1、有馬 健太1 (1.阪大院工)
[21p-B203-3]Ar/N2-plasma sputtering gas pressure dependence on the LaBxNy insulator for low-voltage operation of floating-gate nonvolatile memory
〇(DC)EUNKI HONG1, Shun-ichiro Ohmi1 (1.Tokyo Inst. of Technology)
[21p-B203-4]Improved bottom cell current in perovskite/silicon tandem solar cells by double-sided nanopyramid Si texture
〇(D)Yuqing Li1, Hitoshi Sai2, Calum McDonald2, Zhihao Xu2, Yasuyoshi Kurokawa1, Noritaka Usami1, Takuya Matsui2 (1.Nagoya Univ., 2.AIST)