セッション詳細
[21p-P02-1~6]8.3 プラズマナノテクノロジー
2023年9月21日(木) 13:30 〜 15:30
P02 (熊本城ホール)
[21p-P02-1]RFスパッタリング法を用いたSiGe複合膜の堆積と高容量Liイオン電池負極への応用
〇中田 智久1、花井 稜1、益本 幸泰1、石原 雅之1、大前 知輝1、横井 玲音1、丹羽 亮斗1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
[21p-P02-2]Siナノ粒子/C微粒子ハイブリッド多孔質膜を負極とするLiイオン電池の開発
〇石原 雅之1、花井 稜1、益本 幸泰1、大前 知輝1、中田 智久1、丹羽 亮斗1、横井 玲音1、内田 義一郎1 (1.名城大学理工)
[21p-P02-3]サンドウィッチ構造 a-C:H 膜の剥離と強度に対する 膜界面に堆積したナノ粒子の効果
〇(M2)小野 晋次郎1、恵利 眞人1、奥村 賢直1、鎌滝 晋礼1、山下 尚人1、木山 治樹1、板垣 奈穂1、古閑 一憲1、白谷 正治1 (1.九大)
[21p-P02-4]TMVSを原料として作製したSiO:CH微粒子堆積膜の化学結合状態に対するAr分圧の影響
〇中泉 有稀1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大院工、2.関東学院大材料表面研)
[21p-P02-5]斜入射反応性スパッタリング法による酸化銅薄膜の作製
〇坂本 大和1、及川 大地1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大院工、2.関東学院大学)
[21p-P02-6]斜入射スパッタリング法による離散的柱状構造を有する酸化スズ薄膜の形成
〇亀田 悠真1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大院工、2.関東学院大材料表面研)