セッション詳細
[20p-A31-1~14]17.3 層状物質
2024年9月20日(金) 13:15 〜 17:00
A31 (朱鷺メッセ3F)
山本 真人(関大)
[20p-A31-1]軟質ポリ塩化ビニルを用いたサスペンド原子層構造作製法
〇小野寺 桃子1、安宅 学1、張 奕勁1、守谷 頼1、渡邊 賢司2、谷口 尚2、年吉 洋1、町田 友樹1 (1.東大生研、2.物材機構)
[20p-A31-4]hBN基板上ヤヌスWSSe/WSe2ヘテロ二層の発光特性
〇小川 朋也1、張 文金1、中條 博史2,3,4、青木 颯馬2,3、浦野 裕斗5、遠藤 尚彦1、中西 勇介1、渡邊 賢司5、谷口 尚5、加藤 俊顕2,3、北浦 良5、宮田 耕充1 (1.都立大理、2.東北大工、3.東北大 AIMR、4.KOKUSAI ELECTRIC(株)、5.物材機構)
[20p-A31-5]強誘電リモートドーピングによる単層MoS2のキャリア変調およびh-BN中間層による遮蔽効果
〇栄 凱蓬1、野呂 諒介2、西垣 颯人2、丁 明达2、姚 瑶2、井ノ上 泰輝2、片山 竜二2、小林 慶裕2、松田 一成3、毛利 真一郎1 (1.立命館大理工、2.阪大工、3.京大エネ研)
[20p-A31-7]WSe2上におけるF6-TCNNQ単分子層形成評価
〇松田 健生1、小島 拓也1、野口 裕士1、柯 梦南1、熊谷 翔平2、岡本 敏宏2、青木 伸之1 (1.千葉大院、2.東工大院)
[20p-A31-11]TMDC膜質のIn-situ-ALD-Al2O3カバー成膜時基板温度依存性
〇布施 太翔1、松永 尚樹1、岡村 俊吾1、黒原 啓太1、伊東 壮真1、野澤 俊輔1、白倉 孝典1、若林 整1 (1.東工大)
[20p-A31-13]CVD-monolayer MoS2 MISキャパシタにおける接触電極の形状依存性
〇鶴岡 大樹1、遠藤 尚彦2、宮田 耕充2、青木 伸之1、柯 梦南1 (1.千葉大工、2.東京都立大)