セッション詳細
[16a-S4_203-1~12]7.2 電子ビーム応用
2026年3月16日(月) 9:00 〜 12:15
S4_203 (南4号館)
座長:橘田 晃宜(産総研)、 石田 高史(名大)
[16a-S4_203-2]低真空SEMを用いたTGV孔亀裂の観察
〇姚 遠昭1、澁谷 宗平1、Kim Minjae1、馮 ウェイ2、竹井 裕介2、関口 隆史1 (1.筑波大学数理、2.産総研)
[16a-S4_203-3]正十二面体SE/BSE検出器による角度弁別SEM像の取得と評価
〇柳原 悠人1、熊谷 和博2,3、姚 遠昭2、関口 隆史2 (1.光産業創成大学院大学、2.筑波大数理、3.産総研)
[16a-S4_203-4]SOI技術を用いた高速撮影可能なダイレクト電子検出器の開発Ⅲ
〇石田 裕一1、石田 高史1,2、桑原 真人1,2、新井 康夫3、齋藤 晃1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.KEK)
[16a-S4_203-6]SACLA XFEL で使用された CeB6 熱電子カソードの STEM 観察および EDS 分析
〇山本 悟史1、石田 高史1,2、桑原 真人1,2、齋藤 晃1,2、渡川 和晃3 (1.名大院工、2.名大未来研、3.理化学研究所)
[16a-S4_203-7]情報科学原子分解能透過電子顕微鏡の開発と高速動画観察への応用
〇平山 司1、野村 優貴1、穴田 智史1、佐々木 宏和2、山本 和生1 (1.ファインセラミックスセンター、2.古河電工)
[16a-S4_203-10]電子エネルギー損失分光法を用いた単層グラフェン端における選択的終状態マッピングのコントラスト変化について
〇岩清水 千咲1、越野 雅至2、末永 和知1 (1.阪大産研、2.産総研)
