2026年第73回応用物理学会春季学術講演会
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シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：Lab to Fab 2：量産化とグリーン化を突破するための半導体研究

[16p-W9_222-1~11]Lab to Fab 2：量産化とグリーン化を突破するための半導体研究

2026年3月16日(月) 13:30 〜 18:00
W9_222 (西9号館)
13:30 〜 13:40

[16p-W9_222-1]オープニング

〇三津江 敏之1 (1.デロイトトーマツ)
13:40 〜 14:15

[16p-W9_222-2]デジタル化がもたらす半導体工場の未来：AIとスマートファクトリー

〇上野 隆康1 (1.キオクシア)
14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

[16p-W9_222-3]物理に基づく中間変数を用いたALD-SiO2複数回アニールモデルの再利用性検証

〇岡地 涼輔1、臼井 正則1、村松 潤哉1、桑原 誠1、菊田 大悟1 (1.豊田中研)
14:30 〜 14:45

[16p-W9_222-4]少数データセットにおけるガウス過程回帰を用いた単一濃度・温度条件に対するSi3N4膜のウェットエッチング量予測

〇(M1)平田 佑亮1、柴田 行輝1、三澤 奈央子1、太田 喬2、吉永 祐貴2、松井 千尋1、竹内 健1 (1.東大工、2.株式会社スクリーンセミコンダクターソリューションズ)
14:45 〜 15:00

[16p-W9_222-5]ガウス過程回帰を用いた複数の薬液条件におけるSiO2膜/Si3N4膜のウェットエッチング量予測

〇(M1)平田 佑亮1、三澤 奈央子1、太田 喬2、吉永 祐貴2、松井 千尋1、竹内 健1 (1.東大工、2.株式会社スクリーンセミコンダクターソリューションズ)
15:00 〜 15:35

[16p-W9_222-6]高品質チップを最速で市場へ：RapidusのDMCO/Raads戦略が変える半導体開発の未来

〇鶴崎 宏⻲1 (1.Rapidus株式会社)
15:50 〜 16:25

[16p-W9_222-7]プロセスインフォマティクスによる半導体製造技術の深化

〇髙石 将輝1 (1.アイクリスタル)
16:25 〜 17:00

[16p-W9_222-8]半導体製造グリーン化への化学産業の貢献：廃酸類リサイクル事業

〇高橋 堅太1 (1.下関三井化学株式会社)
17:00 〜 17:15奨励賞エントリー

[16p-W9_222-9]サステナブルなALDの原料オンデマンド供給を可能にする高速開閉バルブの動作制御

〇(M1)石田 栞大1、西里 洋1,2、小田 翔太1、中家 佑吾2、奈須 錦一4、岡島 寛3、百瀬 健4 (1.熊大自、2.堀場エステック、3.熊大先端院、4.熊大半導体)
17:15 〜 17:50

[16p-W9_222-10]グリーンな半導体製造に向けたウェットプロセス革新とエコシステムづくり

〇宮島 弘樹1、中川 真一1 (1.スクリーン)
17:50 〜 18:00

[16p-W9_222-11]研究と現場の対話～対話を再定義してみる～

〇秋永 広幸1 (1.北大院情報)
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