セッション詳細
[18a-S2_203-1~10]13.5 デバイス/配線/集積化技術
2026年3月18日(水) 9:00 〜 12:00
S2_203 (南2号館)
座長:松川 貴(産総研)
受賞記念講演(シリコン系半導体エレクトロニクス業績賞)、パワーデバイス、メモリ、回路、など
[18a-S2_203-1][第3回シリコン系半導体エレクトロニクス業績賞(名取研二業績賞)受賞記念講演] パワー半導体の過去・現在・未来
- 半導体技術は融合しながらその先の未来へ -
〇北川 光彦1 (1.東芝デバイス&ストレージ株式会社、2022年定年退職)
[18a-S2_203-2]低耐圧トレンチフィールドプレートパワーMOSFET におけるフローティング電極形成による寄生容量低減
〇星田 悟志1、石井 大智1、徳山 周平1、西口 俊史1、前山 賢二1、可知 剛1、加藤 浩朗1 (1.東芝デバイス&ストレージ株式会社)
[18a-S2_203-3]3次元フラッシュメモリにおけるレーザーアニール処理時の多結晶Si粒径分布の解析
〇堀川 晃太1、坂田 晃一1、村上 貞俊1、荒井 伸也1、有田 幸司1、鍋坂 恭平2、下田 淳2、古藤 誠2 (1.キオクシア、2.サンディスク)
[18a-S2_203-6]40nm TaOXベースReRAMの読み出し電流中のRTNの高精度抽出手法
〇(M2)アバラ エリオット 勇士1、三澤 奈央子1、松井 千尋1、竹内 健1 (1.東大工)
