講演情報
[S171-13]半導体製造に特化したリスクアセスメント実施用の評価シートの構築（高経年化ラップ研磨機をモデルとしたHM法に基づくリスクアセスメントの実施）
〇天野 政浩1、清水 尚憲3、北條 理恵子2、是村 由佳4、阿部 雅二朗2 (1. グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社、2. 長岡技術科学大学、3. ジー・オー・ピー株式会社、4. 株式会社コレムラ技研)
キーワード：
occupational accident、semiconductor manufacturing equipment、risk assessment、ISO 12100、SEMI S10