[OP-01]Welcome Address
H. Ohno1(Tohoku Univ.)
当該イベント内で検索します。
検索する当該イベント内で検索します。
検索する検索結果(754)
H. Ohno1(Tohoku Univ.)
T. Higashi1(Tokyo Electron Ltd.)
P. Ranade1(Intel Corp.)
T. Matsuoka1(Tohoku Univ.)
○M. Matsubara1(1.Tohoku Univ. (Japan))
○K. Aoshima1, H. Kinjo1, D. Kato1, N. Funabashi1, S. Aso1, K. Machida1, K. Kuga1, T. Mishina1, T. Ishibashi2, H. Kikuchi1(1.NHK Japan Broadcasting Corp. (Japan), 2.Nagaoka Univ. of Tech. (Japan))
○C. A. Lin1, S. W. Liao1, Y. H. Hsiao1, C. L. Yu1, H. C. Kuo1, M. H. Shih2(1.National Chiao Tung Univ. (Taiwan), 2.RCAS, Academia Sinica (Taiwan))
○J. Fompeyrine1, F. Eltes1, S. Abel1(1.IBM Research - Zurich (Switzerland))
H. Du1,2, C. Jin1, X. Wang3, R. Che3,○M. Tian1,2(1.Chinese Academy of Sci. (China), 2.Anhui Univ. (China), 3.Fudan Univ. (China))
○S. Kim1, P. -H. Jang2, D. -H. Kim1, M. Ishibashi1, T. Taniguchi1, T. Moriyama1, K. -J. Kim3,1, K. -J. Lee2, T. Ono1(1.Kyoto Univ. (Japan), 2.Korea Univ. (Korea), 3.KAIST (Korea))
○Y. Du1,2, Y. -C. Lau1,3, J. Nitta2, M. Hayashi1,3(1.Nat'l. Inst. for Mater. Sci. (Japan), 2.Tohoku Univ. (Japan), 3.Univ. of Tokyo (Japan))
○C. Zhang1, S. Fukami1, S. DuttaGupta1, H. Sato1, H. Ohno1(1.Tohoku Univ. (Japan))
○K. Yamanoi1, T. Kimura1(1.Kyushu Univ. (Japan))
○T. Li1, S. Kim1, S. -J. Lee2, S. -W. Lee2, T. Koyama3, D. Chiba3, T. Moriyama1, K. -J. Lee2, K. -J. Kim1,4, T. Ono1,5(1.Kyoto Univ. (Japan), 2.Korea Univ. (Korea), 3.Univ. of Tokyo (Japan), 4.KAIST (Korea), 5.Osaka Univ. (Japan))
○Y. K. Takahashi1, R. Medapalli2, S. Kasai1, J. Wang1, K. Ishioka1, S. H. Wee3, O. Hellwig4, K. Hono1, E. E. Fullerton2(1.NIMS (Japan), 2.UCSD (USA), 3.HGST (USA), 4.Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung (Germany))
○K. Koi1, H. Yoda1, N. Shimomura1, T. Inokuchi1, Y. Kato1, B. Altansargai1, S. Shirotori1, Y. Kamiguchi1, K. Ikegami1, S. Oikawa1, H. Sugiyama1, M. Shimizu1, M. Ishikawa1, T. Ajay1, Y. Ohsawa1, Y. Saito1, A. Kurobe1(1.Toshiba Corp. (Japan))
○T. Sasaki1,2,3, T. Endoh1,2,3(1.Tohoku Univ. (Japan), 2.ACCEL, JST (Japan), 3.OPERA, JST (Japan))
○J. Lee1, H. Jung1, K. Lee1, Y. Song1, G. -H. Koh1, G. -T. Jeong(1.Samsung Electronics Co., Ltd. (Korea))
○M. Shimizu1, H. Yoda1, S. Shirotori1, N. Shimomura1, Y. Ohsawa1, T. Inokuchi1, K. Koui1, Y. Kato1, S. Oikawa1, H. Sugiyama1, A. Buyandalai1, M. Ishikawa1, K. Ikegami1, Y. Kamiguchi1, Y. Saito1, A. Kurobe1(1.Toshiba Corp. (Japan))
○R. Ogasawara1,2,3, T. Endoh1,2,3(1.Tohoku Univ. (Japan), 2.ACCEL, JST (Japan), 3.OPERA, JST (Japan))
○M. Arita1, R. Ishikawa1, S. Hirata1, A. Turumaki-Fukuchi1, Y. Takahashi1(1.Hokkaido Univ. (Japan))
○E. R. Hsieh1, H. W. Cheng1, Z. H. Huang1, C. H. Chuang1, C. H. Chen1, S. Chung1(1.National Chiao Tung Univ. (Taiwan))
○R. Han1, W. Shen1, P. Huang1, Z. Zhou1, L. Liu1, X. Liu1, J. Kang1(1.Peking Univ. (China))
○P. H. Tseng1(1.Macronix International Co., Ltd. (Taiwan))
○C. Y. Lo1, S. C. Wang1(1.eMemory Technology Inc. (Taiwan))
○Y. Sutou1, S. Shindo1, S. Hatayama1, Y. Saito2, J. Koike1(1.Tohoku Univ. (Japan), 2.AIST (Japan))
○H. Shirakawa1, M. Araidai1, K. Shiraishi1(1.Nagoya Univ. (Japan))
○K. V. Mitrofanov1, Y. Saito1, N. Miyata1, P. Fons1, A. V. Kolobov1, J. Tominaga1(1.AIST (Japan))
○C. Pigot1,2,3, F. Gilibert1, M. Reyboz2, M. Bocquet3, P. Zuliani4, J. -M. Portal3(1.STMicroelectronics, Crolles (France), 2.CEA-Leti (France), 3.IM2NP, Aix-Marseille Univ. (France), 4.STMicroelectronics, Agrate (Italy))
○J. Kluge1,2,3, A. Verdy2, G. Navarro2, S. Blonkowski1, V. Sousa2, P. Kowalczyk2, M. Bernard2, N. Bernier2, G. Bourgeois2, N. Castellani2, P. Noé2, E. Nowak2, L. Perniola2(1.STMicroelectronics (France), 2.CEA-Leti (France), 3.IMEP-LAHC (France))
○H. Murata1, L. C. Duy1, S. Oyama1, H. Sakai1(1.JAIST (Japan))
○T. Zhang1, T. Sakanoue1, T. Takenobu1(1.Nagoya Univ. (Japan))
○V. -C. Nguyen1, H. Katsuki1, F. Sasaki2, H. Yanagi1(1.NAIST (Japan), 2.AIST (Japan))
○Y. Esaki1, T. Matsushima1,2,3, C. Adachi1,2,3(1.Kyushu Univ. (Japan), 2.JST ERATO (Japan), 3.WPI-I2CNER (Japan))
○Y. Koshiba1, H. Horii1, M. Morimoto1,2, M. Misaki1,3, T. Fukushima1, K. Ishida1(1.Kobe Univ. (Japan), 2.Univ. of Toyama (Japan), 3.Kindai Univ. Tech. Col. (Japan))
○Y. Ohdaira1, Y. Ikeda1, H. Oka1, K. Shinbo1(1.Niigata Univ. (Japan))
○S. Tokito1(1.Yamagata Univ. (Japan))
S. Shaari1,2, S. Naka1,○H. Okada1(1.Univ. of Toyama (Japan), 2.Univ. Malaysia Perlis (Malaysia))
S. Sharri1,2, S. Naka1,○H. Okada1(1.Univ. of Toyama (Japan), 2.Univ. Malaysia Perlis (Malaysia))
○Y. Maeda1, M. Hiroki1, S. Ohmi1(1.Tokyo Tech (Japan))
○R. Abe1, H. Kojima1, M. Kikuchi2, T. Watanabe3, T. Koganezawa3, N. Yoshimoto2, I. Hirosawa3, M. Nakamura1(1.NAIST (Japan), 2.Iwate Univ. (Japan), 3.Japan Synchrotron Radiation Research Institute (Japan))
○Ken Watanabe1, Koichi Watanabe1, N. Tohnai1, A. Fujii1, M. Ozaki1(1.Osaka Univ. (Japan))
○N. Clement1(1.NTT Basic Res. Labs. (Japan))
○S. Sakiyama1, A. Yasukochi1, T. Iwashita1, K. Fujita1(1.Kyushu Univ. (Japan))
○H. Ueda1, K. Takeuchi1, A. Kikuchi1,2(1.Sophia Univ. (Japan), 2.Sophia Nanotechnology Research Center (Japan))
W. Xie1, T. Tamura1, T. Yanase1, T. Nagahama1,○T. Shimada1(1.Hokkaido Univ. (Japan))
○M. Shintani1, K. Kuribara2, Y. Ogasahara2, M. Hiromoto1, T. Sato1(1.Kyoto Univ. (Japan), 2.AIST (Japan))
○A. Heya1, N. Matsuo1(1.Univ. of Hyogo (Japan))
H. Lee1, Y. Kim1,○S. Lee1(1.Seoul National Univ. (Korea))