2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)17 ナノカーボン・二次元材料：17.3 層状物質

[19p-A202-8~15]17.3 層状物質

2023年9月19日(火) 16:00 〜 18:00
A202 (熊本城ホール)
日比野 浩樹(関学大)
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16:00 〜 16:15奨励賞エントリー

[19p-A202-8]反応性スパッタリングによるAl2O3上へのMoS2のエピタキシー成長

〇(D)金 明玉1,2、岡田 至崇1,2 (1.東大院工、2.東大先端研)
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16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[19p-A202-9]有機金属気相成長法におけるInxSeyの結晶相変化メカニズム

〇遠藤 由大1、関根 佳明1、谷保 芳孝1 (1.NTT物性研)
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16:30 〜 16:45

[19p-A202-10]酸化タングステンナノワイヤ上に成長した単層二硫化タングステンナノリボンの光学特性

〇鈴木 弘朗1、宮田 耕充2、林 靖彦1 (1.岡大院自然、2.都立大理)
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16:45 〜 17:00奨励賞エントリー

[19p-A202-11]大面積単層WS2上へのMAPbI3ナノロッドのヘテロエピタキシャル成長

〇堤 皓政1、Elbohy Hytham1、西川 亘1、林 靖彦1、鈴木 弘朗1 (1.岡大院自然)
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17:00 〜 17:15奨励賞エントリー

[19p-A202-12]その場観測プラズマ原子置換法によるヤヌスTMD表面反応性の直接計測

〇中條 博史1,2、青木 颯馬1、加藤 俊顕1 (1.東北大院工、2.(株)KOKUSAI ELECTRIC)
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17:15 〜 17:30

[19p-A202-13]WS2膜の硫黄雰囲気中アニールにおけるスパッタ温度依存性

〇(B)伊東 壮真1、今井 慎也1、松永 尚樹1、黒原 啓太1、若林 整1 (1.東工大)
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17:30 〜 17:45奨励賞エントリー

[19p-A202-14]粉体HfS2ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によるHfS2膜の作製

〇石川 太一1、西 優貴人1、若林 整2、横川 凌1,3、小椋 厚志1,3 (1.明治大理工、2.東工大、3.明大MREL)
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17:45 〜 18:00奨励賞エントリー

[19p-A202-15]粉体HfS2ターゲットを用いた共スパッタ法でのZrxHf1-xS2混晶膜の作製

〇西 優貴人1、石川 太一1、若林 整2、横川 凌1,3、小椋 厚志1,3 (1.明治大理工、2.東工大、3.明大MREL)
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