[20a-A309-1~9] 6.1 強誘電体薄膜 | 2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)6 薄膜・表面：6.1 強誘電体薄膜

[20a-A309-1~9]6.1 強誘電体薄膜

2023年9月20日(水) 9:00 〜 11:30

A309 (熊本城ホール)

神野伊策(神戸大)、山田智明(名大)

9:00 〜 9:15

[20a-A309-1]種々の組成の(Al, Sc)N多層膜のスイッチング特性評価

〇(D)安岡慎之介¹、岡本一輝¹、清水荘雄^2,3、松井尚子⁴、入澤寿和⁴、恒川孝二⁴、舟窪浩¹ (1.東工大、2.物材研、3.JST さきがけ、4.キヤノンアネルバ)

9:15 〜 9:30奨励賞エントリー

[20a-A309-2]強誘電体Al_0.7Sc_0.3Nのラマン分光測定と膜厚依存性

〇時田幸村¹、角嶋邦之¹、星井拓也¹、若林整¹、筒井一生 (1.東工大)

9:30 〜 9:45

[20a-A309-3]AlN薄膜における低電界での分極反転過程の観測

〇長谷川浩太^1,2、清水荘雄²、大澤健男²、坂口勲^1,2、大橋直樹^1,2,3 (1.九大院総理工、2.物材機構、3.東工大)

9:45 〜 10:00

[20a-A309-4]HAXPESによる金属/AlScN界面のバンドアライメント評価

〇(M2)中田弦¹、桐原芳治¹、保井晃³、角嶋邦之²、野平博司¹ (1.東京都市大学、2.東京工業大学、3.高輝度光化学研究センター)

10:15 〜 10:30奨励賞エントリー

[20a-A309-5]強誘電体キャパシタの酸化アルミニウム積層保護膜によるFeRAMの高信頼化

〇及川光彬¹、王文生¹、恵下隆¹、佐藤のぞみ¹、高井一章¹、中村亘¹、中林正明¹、小澤聡一郎¹、永井孝一¹、三原智¹、彦坂幸信¹、齋藤仁¹ (1.富士通セミコンダクターメモリソリューション)

10:30 〜 10:45

[20a-A309-6]KrFエキシマレーザー照射によるSBT前駆体薄膜の強誘電結晶化

〇高橋光恵¹、酒井滋樹¹、本坊尚也²、相場健²、福岡大²、川﨑輝尚² (1.産総研、2.住友重機械工業)

10:45 〜 11:00

[20a-A309-7]チタン酸バリウム水熱微小粒子径の原料濃度依存性

〇山口正樹¹、満石海¹、齋藤敦史¹、山本孝² (1.芝浦工大、2.大阪公立大)

11:00 〜 11:15奨励賞エントリー

[20a-A309-8]水熱合成法で作製した (Bi, K)TiO₃基薄膜の熱処理効果

〇村下太一¹、髙橋雄真¹、窪田るりか¹、伊東良晴²、藤井康裕³、是枝聡肇³、岡本一輝¹、舟窪浩¹ (1.東京工業大学、2.日本大学、3.立命館大学)

11:15 〜 11:30英語発表

[20a-A309-9][Young Scientist Presentation Award Speech] Flexible BaTiO₃ Epitaxial Films with Bulk-like Ferroelectricity and Piezoelectricity

〇Lizhikun Gong¹, Binjie Chen¹, Rui Yu¹, Hiromichi Ohta², Katayama Tsukasa^2,3 (1.IST, Hokkaido Univ., 2.RIES, Hokkaido Univ., 3.JST-PRESTO)

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