セッション詳細
[23p-A307-1~15]6.3 酸化物エレクトロニクス
2023年9月23日(土) 13:00 〜 17:00
A307 (熊本城ホール)
島 久(産総研)、 高 相圭(株式会社村田製作所)
[23p-A307-1]SmNiO3界面とナノ構造制御によるプロトン駆動型抵抗スイッチ機能の高効率化
〇(M2)梅崎 景都1、萱尾 清人2、藤 大雪2、大勝 賢樹3、山口 航3、新田 亮介3、真島 豊3、李 好博1、服部 梓1、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.阪大院工、3.東工大フロンティア材料研究所)
[23p-A307-3]Empowering Efficiency: Scaling Device Area for Ultra-low-power Dissipation in Protonic Synapses
〇SatyaPrakash Pati1, Satoshi Hamasuna1, Takeaki Yajima1 (1.Kyushu Univ.)
[23p-A307-5]単結晶hBNフレーク上に作製したVO2の電流誘起抵抗スイッチングにおけるフレーク境界の効果
〇(M1)冨田 雄揮1、中払 周2、若山 裕2、渡邉 賢治2、谷口 尚2、李 好博1、服部 梓1、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.物質・材料機構)
[23p-A307-6]HfO2-ReRAMへの電圧パルス印可でのコンダクタンス変化のoff time依存性
〇田中 正和1、岡安 真治1、黄 川洋1、清水 智弘1、伊藤 健1、新宮原 正三1 (1.関西大理工)
[23p-A307-8]均一沈殿・水熱法を用いたシュウ酸チタン塩からの酸化チタンナノ粒子の合成:Anatase/Rutile相の制御
〇(M2)梶原 奨平1、板谷 清司1,2、桑原 英樹1、遠山 岳史2、横井 太史3、佐々木 哲朗4、黒江 晴彦1 (1.上智大理工、2.日大理工、3.東医歯大生材研、4.静岡大電研)
[23p-A307-10]液相析出法による異種元素添加酸化チタン光触媒の合成 とメタン分解への応用
〇本田 光裕1、吉井 祐作1、岡山 誠史2、市川 洋1 (1.名工大応物、2.ケイミュー株式会社)