セッション詳細
[10a-N105-1~9]21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2025年9月10日(水) 9:00 〜 11:30
N105 (共通講義棟北)
太田 優一(富山県立大)
[10a-N105-1]THVPE法によるGaN基板上ε-Ga2O3成長における基板表面酸化の影響
〇北川 晴輝1、田口 幸佑2、邱 萍2、村上 尚1,2 (1.東京農工大先進学際科学府、2.東京農工大学生物システム応用化学府)
[10a-N105-2]TEMによるScAlMgO4オフ基板上β-Ga2O3の極微構造評価
〇草山 大生1、加藤 颯真1、中本 トラン2、金子 健太郎3、松倉 誠4、小島 孝広4、荒木 努1 (1.立命館大理工、2.R-GIRO、3.立命館大総研、4.(株)オキサイド)