セッション詳細
[16a-K403-1~6]6.2 カーボン系薄膜
2025年3月16日(日) 9:30 〜 11:15
K403 (講義棟)
[16a-K403-1]DLC膜高速形成フィルタードアーク蒸着装置における陰極点駆動
〇佐野 絃貴1、佐野 春1、渡辺 聖也1、大根田 みらの1、滝川 浩史1、杉田 博昭2、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技科大、2.オーエスジー(株))
[16a-K403-2]α-Ga2O3導波路作製に向けたPECVD 成膜 a-C:H 膜のArプラズマエッチング耐性評価
〇(M2)飯嶋 航大1、谷口 公太3、大槻 秀夫1、神野 莉衣奈1、遠西 美重4、松谷 晃宏4、太田 泰友3、岩本 敏1,2 (1.東大先端研、2.東大生産研、3.慶大理工、4.東京科学大 RIM 機構 CFC)
[16a-K403-3]水素化アモルファス炭素膜のレーザ接合時に生じるプラズマの発光分析
〇長谷 嘉琉1、奈良 千尋1、青野 祐子1、平田 祐樹1、大竹 尚登1、赤坂 大樹1 (1.科学大)
[16a-K403-4]ホウ素ドープアモルファスカーボン膜の金属化
〇村岡 祐治1、榎本 奨2、中島 統晴3、脇田 高徳4、横谷 尚睦1、山神 光平4 (1.岡山大基礎研、2.岡山大院環境生命自然科学、3.岡山大理、4.高輝度光科学研究センター)
[16a-K403-5]大電力パルススパッタリングを用いたDLC成膜におけるSi添加効果
〇太田 貴之1、三輪 侑生1、小田 昭紀2、針谷 達3、上坂 裕之3 (1.名城大理工、2.千葉工大、3.岐阜大工)
[16a-K403-6]圧力勾配式スパッタ法を用いて作製したアモルファス窒化炭素薄膜における成膜圧力と投入電力の影響
高木 康平1、神谷 和奏1、島 宏美2、森本 貴明3、〇青野 祐美1 (1.鹿児島大学、2.防衛大通信、3.防衛大機能材料)