2025年第72回応用物理学会春季学術講演会
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一般セッション(ポスター講演)13 半導体：13.3 絶縁膜技術

[16p-P13-1~5]13.3 絶縁膜技術

2025年3月16日(日) 16:00 〜 18:00
P13 (森戸記念体育館)

[16p-P13-1]Si3N4膜とSiO2膜中のサイト間の水素イオンのホッピング

〇奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機)
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[16p-P13-2]熱ALD法におけるBN成膜機構解析に向けた反応性分子動力学法力場の構築

〇(M1)後藤 星南1,2、徳増 崇2 (1.東北大院工学研究科、2.東北大流体研)
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[16p-P13-3]フラッシュランプアニール処理によるSiO2薄膜の改質の評価

〇桐原 芳治1、京谷 和磨1、川合 遼一1、繁桝 翔伍2、谷村 英昭2、加藤 慎一2、満田 勝弘2、三谷 祐一郎1、野平 博司1 (1.東京都市大、2.SCREENｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀｰｿﾘｭｰｼｮﾝｽﾞ)
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[16p-P13-4]水素ラジカル処理とGeエピ膜挿入によるAl2O3/Ge界面の特性向上

〇居藤 智鷹1、澤野 憲太郎1、中川 清和2 (1.都市大総合理工、2.アビットテクノロジーズ)
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[16p-P13-5]光レクテナのためのスピンコート法を用いた MIM ダイオードの作製

〇(M2)石井 翔1、栁澤 圭亮1、赤羽 隆志1、尹 友1 (1.群馬大学)
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