セッション詳細

[8p-E308-1~11]15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2026年9月8日(火) 13:30 〜 16:30
E308 (総合教育棟 E棟)

[8p-E308-1]SiC 昇華法成長時における結晶径増加時の応力・転位密度の傾斜角依存性

〇柿本 浩一1、中野 智2 (1.東北大 NICHe、2.九大 応力研)

[8p-E308-2]赤外光弾性法による応力印加された(001)n-InP単結晶基板の観察

〇松尾 泰弘1、奥 友希1、川畑 直之1、中村 直幹1、福澤 理行2 (1.三菱電機(株)、2.京工繊大院)

[8p-E308-3]断面TEM観察および顕微ラマンマッピングによる(110)Si基板上SiGe薄膜のハッチ形成と歪み緩和挙動の評価

〇伊藤 佑太1,2、伊波 希宇1,3、臼田 宏冶4、熊谷 直人3,5、入沢 寿史3,5、小椋 厚志1,4 (1.明治大理工、2.学振特別研究員DC、3.産総研SFRC、4.明大MREL、5.LSTC)

[8p-E308-4][100]および[110]CZ-Si単結晶育成における熱ショック転位挙動の比較

〇塚田 翔馬1、斉藤 広幸2、松村 尚1,2、干川 岳志1、太子 敏則1 (1.信大工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社)

[8p-E308-5]Si (100) および (110) ウェーハの急速熱酸化におけるボイド欠陥消滅挙動 (Ⅱ)

〇(D)楠木 琢也1,2、須藤 治生2、早川 兼2、小林 裕真2、松村 尚2、末岡 浩治3 (1.岡山県大院情報系工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社、3.岡山県大情報工)

[8p-E308-6]RTPウェーハに導入したBMD析出核のゲッタリング効果に関する理論的研究

〇岩城 浩也1,2、別宮 響1、竹田 伊織1、須藤 治生2、早川 兼2、神山 栄治2、末岡 浩治3 (1.岡山県大院情報系工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン(株)、3.岡山県大情報工)

[8p-E308-8]SbドープCZ-Si成長におけるSb揮発の平衡・速度論モデルの比較

〇高木 健太郎1、西澤 伸一2、末若 良太1 (1.株式会社SUMCO、2.九州大学)

[8p-E308-9]シリコン結晶基板の品質と点欠陥: ルネサンス (16) 点欠陥に対する圧力と内部熱応力効果

〇井上 直久1、川又 修一1、奥田 修一1 (1.大阪公大 放射線研究センター)

[8p-E308-10]シリコン結晶の高感度赤外吸収と赤外欠陥動力学: ルネサンス (29)
シャローサーマルドナー高温型NO/フォトルミでは窒素濃度も測れない

〇井上 直久1、川又 修一1、奥田 修一1 (1.大阪公大 放射線研究センター)

[8p-E308-11]シリコン結晶中の低濃度炭素の測定:ルネサンス (33) 赤外によるポリシリコン測定/フォトルミネッセンス標準化はできなかった

〇井上 直久1、奥田 修一1、川又 修一1 (1.大阪公大 放射線研究センター)