[16a-W8E_101-1~9] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価 | 2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

セッション詳細

一般セッション(口頭講演)13 半導体：13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2026年3月16日(月) 9:30 〜 12:00

W8E_101 (西8号館)

9:30 〜 9:45奨励賞エントリー

〇岩本晃¹、重川直輝¹ (1.大阪公大工)

9:45 〜 10:00

〇須山篤志^1,2、南川英輝²、青木正彦²、横田一広²、須田淳¹ (1.名大院工、2.イオンテクノセンター)

10:00 〜 10:15奨励賞エントリー

〇板倉ほの香¹、堀田昌宏^1,2、加地徹²、須田淳^1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

10:15 〜 10:30

〇制野かおり¹、白石賢二^2,3、押山淳^2,3 (1.九工大工、2.東北大CIES、3.名大未来研)

10:30 〜 10:45

〇唐沢陽向¹、高橋尚伸¹、赤澤正道¹、金木奨太²、横山正史²、藤倉序章² (1.北大量集センター、2.住友化学)

11:00 〜 11:15

〇北川和輝¹、上杉勉²、堀田昌宏^1,2、加地徹²、須田淳^1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

11:15 〜 11:30

〇高橋尚伸¹、嶋崎喬大¹、佐藤威友¹、赤澤正道¹ (1.北大量集センター)

11:30 〜 11:45奨励賞エントリー

〇清史幸¹、伊藤健治²、堀田昌宏^1,2、加地徹²、須田淳^1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

11:45 〜 12:00

〇前田拓也¹、棟方晟啓¹、小林正起¹、中根了昌¹、Karolina Peret²、Mikolaj Chlipala²、Henryk Turski² (1.東大院工、2.ポーランド科学アカデミー高圧物理学研究所)