セッション詳細
[21a-P03-1~16]6.4 薄膜新材料
2023年9月21日(木) 9:30 〜 11:30
P03 (熊本城ホール)
[21a-P03-1]イオン液体アシスト法を用いた金属水素化物薄膜合成
〇(M1)大脇 一眞1、戸澤 拓海1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)
[21a-P03-2]活性水素の有効利用によるMgH2エピタキシャル薄膜の合成
〇(M1)下萬 祐暉1、宗房 幸太1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)
[21a-P03-3]有機金属分解法を用いたYMnO3薄膜の作製と評価
〇渡邉 奏汰1、チャフィ ファティマ ザーハラ1、石橋 隆幸1 (1.長岡技科大)
[21a-P03-4]反射率測定を用いた光MOD法によるBi置換希土類鉄ガーネットの結晶化プロセスの解析
〇(M1C)中澤 俊1、磯村 奎太郎1、チャフィ ファティマ ザーハラ1、西川 雅美1、河原 正美2、石橋 隆幸1 (1.長岡技大、2.高純度化学)
[21a-P03-5]MOD法によるLa-BIG薄膜のバッファ層組成と結晶性の関係
〇中野 春流1、横野 敬史1、森 謙太1、西 敬生1、神田 哲典2、加藤 剛志3、河原 正美4、西川 雅美5、石橋 隆幸5 (1.神戸高専、2.大島商船高専、3.名古屋大、4.高純度化学、5.長岡技科大)
[21a-P03-6]異なる鎖状構造の有機化合物を用いてMOD法で製膜した磁性ガーネット薄膜の評価
〇横野 敬史1、中野 春流1、森 謙太1、西 敬生1、神田 哲典2、加藤 剛志3、河原 正美4、西川 雅美5、石橋 隆幸5 (1.神戸高専、2.大島商船高専、3.名古屋大、4.高純度化学、5.長岡技科大)
[21a-P03-7]High Frequency Properties of Bismuth-substituted Europium Iron Garnet
〇(M1)MdAbdullahAl Masud1, Wataru Asano1, Takao Nishi2, Daiki Oshima3, Takeshi Kato3, Kiejin Lee4, Masami Kawahara5, Fatima Zahra Chafi1, Masami Nishikawa1, Takayuki Ishibashi1 (1.Nagaoka Univ. Tech., 2.Kobe City Coll. Tech., 3.Nagoya Univ., 4.Sogang Univ., 5.Kojundo Chem.)
[21a-P03-8]MnドープITOエピタキシャル成長膜の物性に対する結晶方位依存性
〇北川 彩貴1,2,3、中村 敏浩1,3 (1.京大院人環、2.学振特別研究員、3.京大国際高等教育院)
[21a-P03-9]パルスレーザー堆積法によるCrSe薄膜成長と電気伝導特性評価
〇田島 悠輔1、塩貝 純一1,2、上田 浩平1,2、松野 丈夫1,2 (1.阪大理、2.阪大 OTRI スピン)
[21a-P03-10]電気二重層デバイス構造を用いたCo3Sn2S2薄膜の伝導チャネル厚み制御
〇藤原 宏平1、池田 絢哉1、伊藤 俊1、塚﨑 敦1,2 (1.東北大金研、2.東北大CSIS)
[21a-P03-11]真空蒸着法によるｐ型透明半導体CuI薄膜の作製と特性向上
〇猪俣 崇1、木本 学2、藤田 圭祐3、長尾 朋和3 (1.稀産金属、2.テクノアソシエ、3.NBCメッシュテック)
[21a-P03-12]UHVスパッタエピタキシー法による六方晶ZnSnN2層の成長
〇長澤 俊輝1、吉田 圭祐1、篠田 宏之1、六倉 信喜1 (1.東京電機大学工)
[21a-P03-13]SiO層を用いた樹脂基板上BPFのクラック防止
〇室 幸市1、望月 章2、金澤 弥3 (1.帝京大理工、2.大正光学、3.三和研磨工業)
[21a-P03-14]アモルファス IZO ナノファイバ不織布の導電性向上への試み
〇(M2)小川 裕貴1、大木下 潤1、内田 健斗1、内山 裕美菜1、野見山 輝明1、堀江 雄二1 (1.鹿児島大院理工)
[21a-P03-15]フレキシブルプリント基板上に作製したPb(Zr0.52, Ti0.48)O3薄膜の化学組成が電気特性に及ぼす影響
〇西川 直希1、廣崎 紀光2、西川 博昭3 (1.近畿大院生物理工、2.太洋工業 (株)研究開発部、3.近畿大生物理工)
[21a-P03-16]アセチルアセトンによるZnO溶解を利用したハイドロキシアパタイト自立膜の形成
〇(M1)小田 裕也1、西川 博昭2 (1.近畿大院生物理工、2.近畿大生物理工)