セッション詳細
[22a-A202-1]乾式プロセスによるMoS2/サイトップ絶縁膜界面の特性評価
〇河野 勇太1、荒井 俊人2、西村 知紀1、金橋 魁利1、長汐 晃輔1 (1.東大工、2.NIMS)
[22a-A202-2]ReドープMoSe2同一結晶面内ヘテロ構造によるトンネルFET動作
〇香崎 飛竜1、西村 知紀1、金橋 魁利1、上野 啓司2、長汐 晃輔1 (1.東大、2.埼大)
[22a-A202-3]Sb2Te3層状膜によるMoS2上低抵抗コンタクトの実現
〇張 文馨1、畑山 祥吾1、齊藤 雄太1、岡田 直也1、遠藤 尚彦2、宮田 耕充2、入沢 寿史1 (1.産総研、2.都立大)
[22a-A202-5]ドーパミン溶液/MoS2-FETの電気特性
〇高岡 毅1、Nasiruddin Md2、和泉 廣樹3、道祖尾 恭之1、安藤 敦3、米田 忠弘1 (1.東北大多元研、2.東北大院理、3.産総研)
[22a-A202-6]転写バルク結晶から100以上の単層MoS2半導体を得る電気化学手法
〇望月 陸1,2、大熊 光2、片山 裕美子2、上野 和紀2、藤村 紀文1、桐谷 乃輔2 (1.阪公大院工、2.東大院総合)
[22a-A202-7]Controlling Photoisomerization and Thermal Reset of Azobenzene Molecules on the Channel of a MoS2 Field Effect Transistor
〇(D)Md Nasiruddin1, Tsuyoshi Takaoka1, Yasuyuki Sainoo1, Hiroki Waizumi1, Fatema Tul Afroz1, Kosuke Sakashita1, Aoi Sato1, Atsushi Ando2, Tadahiro Komeda1 (1.Tohoku Univ., 2.AIST)
[22a-A202-9]スパッタMoS2 膜に対するエッジ金属コンタクトの電流電圧特性
〇今井 慎也1、梶川 亮介1、川那子 高暢1、宗田 伊理也1、角嶋 邦之1、辰巳 哲也1、冨谷 茂隆1、筒井 一生1、若林 整1 (1.東工大)
[22a-A202-10]ニホウ化アルミニウムの結晶成長と窒素還元反応評価
〇梨本 一樹1、堀口 佳子2、熊谷 明哉3,4,2,5,6、岡田 健1 (1.東北大院工、2.東北大AIMR、3.東大IEI、4.PRESTO-JST、5.東北大院環境、6.東北大CSIS)
[22a-A202-11]Zスキーム型g-C3N4/SnS2光触媒実現のためのヘテロ接合形成および接合面積の増大化
〇(M1)森 耀平1、バスカー マラティ1、ハリッシュ サンダーナクリッシュナン2、ナバニーザン マニ2、中村 篤志1 (1.静岡大院、2.SRM Inst.)