セッション詳細

[9a-N201-1~10]6.1 強誘電体薄膜

2025年9月9日(火) 9:00 〜 11:30
N201 (共通講義棟北)

[9a-N201-1]下部電極層による格子歪を用いたPb(Zr, Ti)O3薄膜のドメイン制御

〇(D)中畑 美紀1、石濱 圭佑2、江原 祥隆3、清水 荘雄4、Xie Lingling5、菅 大介5、山田 智明6、岡本 一輝1、舟窪 浩1 (1.科学大、2.東工大、3.防大、4.NIMS、5.京大化研、6.名古屋大)

[9a-N201-2]Nb添加エピタキシャルPb(Zr,Ti)O3薄膜の圧電特性評価

〇山本 郁仁1、八木 隆之介1、權 相曉1、神野 伊策1 (1.神戸大工)

[9a-N201-3]多能性®中間膜を用いた圧電材料のエピタキシャル成長と圧電デバイス評価

〇關 雅志1、神田 健介2、木島 健1、木村 勲1、中尾 健人1 (1.株式会社Gaianixx、2.兵庫県立大学)

[9a-N201-4]大気圧100 ºC以下における強誘電体薄膜の合成と評価

〇古賀 彩月1、胡 雨弦1、白石 貴久2、岡本 一輝1、舟窪 浩1 (1.科学大、2.熊本大学)

[9a-N201-5]水熱合成法による(100)配向BaTiO3系薄膜の熱処理効果

〇増田 達也1、島 宏美2、内田 寛3、安井 伸太郎4、森分 博紀1,4、江原 祥隆2 (1.JFCC、2.防衛大、3.上智大、4.科学大)

[9a-N201-6]異方性エッチング表面上チタン酸バリウム立方体状微粒子の配向特性

〇中島 世龍1、佐々木 悠眞1、山口 正樹1、山本 孝2 (1.芝浦工大、2.防衛大)

[9a-N201-7]低温度係数高誘電体に向けたY2Ti2O7薄膜へのSc,La共添加

〇名田 遥香1、横手 俊哉1、近藤 真矢1、田口 綾子2、設楽 一希2、森分 博紀2,5、Reilly Knox3、Sengsavang Aphayvong4、吉村 武4、Darren C. Pagan3、Susan Trolier-McKinstry3、山田 智明1,5 (1.名大工、2.JFCC、3.Penn State Univ.、4.阪公大工、5.科学大MDX)

[9a-N201-8](Rb,K)NbO3固溶体薄膜の電気特性

〇増田 歩1,2、田口 祐也1、増田 達也2、濵嵜 容丞3、江原 祥隆3、森分 博紀1,2、小林 能直1、安井 伸太郎1 (1.科学大、2.JFCC、3.防衛大)

[9a-N201-9]Si基板上へのBiFeO3-BaTiO3薄膜の作製とその電気特性評価

〇(M1)足田 友志1、藤村 紀文1、吉村 武1 (1.阪公大工)

[9a-N201-10]ミストCVD法による銀薄膜の成膜とEDAの濃度がプラズモン共鳴に与える影響

〇水本 圭1,2、岡田 達樹1,2、大橋 亮介1,2、モンダル アバイ・クマール1、ワイス テッ1、川原村 敏幸1,3 (1.高知工大、2.シス工、3.総研)