2025年第72回応用物理学会春季学術講演会
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セッション詳細

一般セッション(口頭講演)16 非晶質・微結晶：16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[17p-K308-1~12]16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2025年3月17日(月) 13:30 〜 16:45
K308 (講義棟)
13:30 〜 13:45奨励賞エントリー

[17p-K308-1]Zr金属ガラス表面酸化の酸化種依存性

〇(M1C)平井 太偲1、鷺 拓末1、遠田 義晴1、富樫 望2 (1.弘前大院理工、2.Orbray)
13:45 〜 14:00

[17p-K308-2]溶融急冷過程におけるFe–Si–B 系アモルファス合金の正二十面体クラスタ形成と結合

池淵 遼平1、下野 昌人2、〇平山 尚美1 (1.島根大NEXTA、2.NIMS)
14:00 〜 14:15

[17p-K308-3]電顕監察下によるナノ粒子のオストワルドライプニング

〇森永 智1、依田 眞一1、大隅 壮太2、徳田 誠2 (1.京石ナノ研、2.熊大工)
14:15 〜 14:30英語発表

[17p-K308-4]Surface dynamics on Cobalt nanoparticles

〇(D)Marthe Bideault1,2, Jerome Creuze2, Arnaud Allera3, Ryoji Asahi4, Erich Wimmer1 (1.Materials Design SARL, FR, 2.ICMMO/SP2M, Univ. Paris-Saclay, FR, 3.IRSN/PSN-RES/SEMIA/LSMA, FR, 4.Institute of Materials Innovation, Nagoya Univ., JAPAN)
14:30 〜 14:45

[17p-K308-5]アモルファス硫化ゲルマニウムへの銀の光拡散ー中性子非鏡面散乱測定による面内構造の研究ー

〇坂口 佳史1、原 竜弥2、渋谷 猛久3、花島 隆泰1、笠井 聡1、青木 裕之4 (1.CROSS、2.東海大工、3.東海大理系教育センター、4.原子力機構)
14:45 〜 15:00奨励賞エントリー

[17p-K308-6]中性子反射率法によるアモルファス二硫化ゲルマニウム膜への銀のフォトドーピングの解析

〇原 竜弥1、渋谷 猛久2、村上 佳久3、坂口 佳史4 (1.東海大工、2.東海大理系教育センター、3.筑波技術大、4.CROSS)
15:15 〜 15:30

[17p-K308-7]AICで形成した種結晶層上でのアモルファスシリコン膜のFLAによる結晶化促進

〇(M2)李 柏同1、Huynh Thi Cam Tu1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)
15:30 〜 15:45奨励賞エントリー

[17p-K308-8]V-Te薄膜の相変化に伴う物性変化

〇(M1)折原 周平1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大AIMR)
15:45 〜 16:00

[17p-K308-9]熱処理によるSb-Se蒸着膜の状態密度変化

〇後藤 民浩1、澤田 航1 (1.群馬大理工)
16:00 〜 16:15奨励賞エントリー

[17p-K308-10]溶融不要なCr-Te薄膜の不揮発性メモリ応用の調査

〇(M1)鶴田 卓也1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大工(AIMR))
16:15 〜 16:30注目講演

[17p-K308-11]価数揺動現象の制御による不揮発性抵抗スイッチの実現

〇畑山 祥吾1、森 竣祐2、齊藤 雄太1,2、フォンス ポール3、双 逸2、須藤 祐司2 (1.産総研 SFRC、2.東北大工、3.慶應大)
16:30 〜 16:45奨励賞エントリー

[17p-K308-12]VCrN薄膜の相変化挙動と電気特性

〇(DC)張 惟喬1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大AIMR)
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