[7a-N301-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶 | 2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)15 結晶工学：15.4 III-V族窒化物結晶

[7a-N301-1~11]15.4 III-V族窒化物結晶

2025年9月7日(日) 9:00 〜 12:00

N301 (共通講義棟北)

9:00 〜 9:15

[7a-N301-1]RF-MBE法を用いた低温AlN成長におけるAlリッチ成長条件下での
Al/AlN積層構造形成

〇田中練¹、川端重温¹、中本トラン²、藤井高志³、荒木努¹ (1.立命館大理工、2.R-GIRO、3.立命館大総研)

9:15 〜 9:30

[7a-N301-2]透過電子顕微鏡を用いたRF-MBE低温成長AlNの極微構造評価

〇川端重温¹、田中練¹、中本トラン²、藤井高志³、荒木努¹ (1.立命館大理工、2.R-GIRO、3.立命館大総研)

9:30 〜 9:45

[7a-N301-3]スパッタ・アニール法による半極性(11-22)AlNの結晶性向上

〇小林大樹¹、赤池良太^1,2、大矢健世¹、安永弘樹^2,3、中村孝夫^1,2、三宅秀人^1,2 (1.三重大院工、2.三重大半デセンター、3.三重大研基機構)

9:45 〜 10:00

[7a-N301-4]スパッタAlN上へのMOVPE法によるAlNの高温成長

〇(M2)松原優翔¹、藤井滉樹¹、髙柳祐介¹、林悠希矢¹、清水蒼輝¹、高島祐介^1,2、直井美貴^1,2、前岡淳史³、大澤篤史³、高辻茂³、木村貴弘³、永松謙太郎^1,2 (1.徳島大理工、2.徳島大ポストLEDフォトニクス研究所、3.(株)SCREENホールディングス)

10:00 〜 10:15

[7a-N301-5]r面サファイア基板の熱処理による非極性面AlNの面方位制御

〇森新之助¹、赤池良太^1,2、安永弘樹^2,3、中村孝夫^1,2、三宅秀人^1,2 (1.三重大院工、2.三重大半デセンター、3.三重大研基機構)

10:30 〜 10:45

[7a-N301-6]AFHT-MOCVD法におけるDiamond(111)基板上へのAlNエピタキシャル成長

〇沈旭強¹、加藤宙光¹、加藤有香子¹、牧野俊晴¹、児島一聡¹ (1.産総研)

10:45 〜 11:00

[7a-N301-7]Ｘ線ロッキングカーブからのAlN膜における螺旋転位密度の推定

〇原蓮之介¹、赤池良太^1,2、安永弘樹^2,3、中村孝夫^1,2、三宅秀人^1,2 (1.三重大院工、2.三重大半デセンター、3.三重大研基機講)

11:00 〜 11:15

[7a-N301-8]AlN基板上GaN、AlGaNの特異な歪緩和機構

〇鷲山瞬¹、井上振一郎¹ (1.情通機構)

11:15 〜 11:30

[7a-N301-9]スパッタ・アニール法による半極性(11-22)AlN上へのAlGaN多重量子井戸作製

〇大矢健世¹、赤池良太^1,2、安永弘樹^2,3、中村孝夫^1,2、三宅秀人^1,2 (1.三重大院工、2.三重大半デセンター、3.三重大研基機構)

11:30 〜 11:45

[7a-N301-10]スパッタ成長高Al組成Si-doped AlGaNへのin-situオーミック電極の形成

〇(DC)内藤愛子¹、上野耕平¹、藤岡洋¹ (1.東大生研)

11:45 〜 12:00奨励賞エントリー

[7a-N301-11]超高耐圧AlN/Al_0.9Ga_0.1N/AlNマルチチャネルトランジスタの作製

〇小坂鷹生¹、上野耕平¹、藤岡洋¹ (1.東大生研)

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