2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
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セッション詳細

一般セッション(口頭講演)6 薄膜・表面：6.2 カーボン系薄膜

[20p-C402-1~17]6.2 カーボン系薄膜

2023年9月20日(水) 13:30 〜 18:00
C402 (国際交流会館)
中村 挙子(産総研)、 伊藤 治彦(長岡技大)
13:30 〜 13:45

[20p-C402-1]光表面化学修飾を用いたフッ素フリー炭化水素系撥水コーティング技術

〇中村 挙子1 (1.産総研)
13:45 〜 14:00英語発表

[20p-C402-2]Direct Synthesis of Hydrogen-Substituted Graphdiyne on SiO2 and Conductive Glass Substrates

〇(PC)Jeganathan Chellamuthu1, Masanori Hara1, Kenta Kokado1, Masamichi Yoshimura1 (1.Toyota Techno. Ins.)
14:00 〜 14:15

[20p-C402-3]X線光電子分光による非結晶カーボン膜内部の化学結合状態の評価

〇村岡 祐治1、榎本 奨2、岳 強3、岡﨑 宏之4、脇田 高徳1、横谷 尚睦1 (1.岡山大基礎研、2.岡山大院環境生命自然科学、3.岡山大院自然科学、4.量研)
14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

[20p-C402-4]HF-HiPIMS法を用いたDLC膜のラマンスペクトルにおけるフィッティングバンド数の検討

〇(D)福江 紘幸1、中谷 達行1、岡野 忠之2、黒岩 雅英2、國次 真輔3、鷹林 将4、太田 裕己5、米澤 健5,1 (1.岡山理大、2.東京電子、3.岡山工技セ、4.有明高専、5.ケニックス)
14:30 〜 14:45

[20p-C402-5]アモルファス炭素膜のsp2結合炭素配向性のレーザ照射による変化

馬田 直樹1、青野 祐子1、新部 正人2,3、神田 一浩3、平田 祐樹1、大竹 尚登1、〇赤坂 大樹1 (1.東工大、2.東大、3.兵庫県大)
14:45 〜 15:00奨励賞エントリー

[20p-C402-6]単色化軟X線照射によるDLC膜の体積変化

〇(M2)三嶋 友博1、森田 恭司1、中西 康次1、赤坂 大樹2、鈴木 常生3、神田 一浩1 (1.兵県大工　高度研、2.東工大工、3.長岡技科大)
15:00 〜 15:15奨励賞エントリー

[20p-C402-7]昇温による高水素化DLC膜の自由体積の変化

〇(M1)丹羽 大輔1、三嶋 友博1、中西 康次1、福室 直樹2、木野村 淳3、神田 一浩1 (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.京大複合研)
15:15 〜 15:30

[20p-C402-8]電子線堆積カーボン探針のヤング率とカーボン結合状態の関係性の評価

〇奥西 昴1、宮澤 佳甫1,2、古庄 公寿2、寺前 奎吾1、福間 剛士1,2 (1.金大院、2.金大WPI-NanoLSI)
15:45 〜 16:00奨励賞エントリー

[20p-C402-9]水素化アモルファス炭素薄膜の細胞接着性評価

〇北洞 涼雅1、清水 敬行1、宮城 恒成1、鈴木 輝夫2、田村 豊2、小木曽 智2、杉村 智2、松浦 慶2、平栗 健二1、大越 康晴1 (1.電機大、2.春日電機)
16:00 〜 16:15

[20p-C402-10]C2H2/N2混合気体に対するマイクロ波プラズマCVDで
生成した高窒素含有a-CNx:H薄膜の形成
ー [N]/([N]+[C])>0.5を達成する化学結合状態は何か？

〇伊藤 治彦1、佐藤 悠雅1、鈴木 常生1、斎藤 秀俊1 (1.長岡技科大工)
16:15 〜 16:30

[20p-C402-11]化学量論組成が窒素過剰な層状窒化炭素薄膜の作製

〇佐々木 脩人1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.信州大 先鋭材料研)
16:30 〜 16:45

[20p-C402-12]酸素含有雰囲気下での層状窒化炭素膜の作製とその電気的特性への効果

〇樋口 航太1、橘 昌希1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.信州大　先鋭材料研)
16:45 〜 17:00

[20p-C402-13]窒化炭素膜によるリングゲート型電界効果トランジスタの作製

〇橘 昌希1、樋口 航太1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.信州大　先鋭材料研)
17:00 〜 17:15

[20p-C402-14]リン添加層状窒化炭素膜の化学気相成長

〇栗本 菜津子1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2 (1.信州大工、2.信州大　先鋭材料研)
17:15 〜 17:30奨励賞エントリー

[20p-C402-15]低周波成膜DLCの酸素還元反応

〇(M2)松崎 充晃1、小嶋 翔1、小笠原 知大1、鈴木 輝夫2、田村 豊2、小木曽 智2、杉村 智2、松浦 慶2、向山 義治1、平栗 健二1、大越 康晴1 (1.電機大、2.春日電機)
17:30 〜 17:45

[20p-C402-16]光学定数に基づいて分類した非晶質炭素膜の電気絶縁性

〇(M1)一條 瑛巴1、平塚 傑工2、平栗 健二1 (1.電機大工、2.ナノテック)
17:45 〜 18:00奨励賞エントリー

[20p-C402-17]コイル陽極フィルタードアークを用いた水素フリーDLC膜の高速形成

〇渡辺 聖也1、鬼頭 純平1、坂東 隆宏1、針谷 達1、滝川 浩史1、杉田 博昭2、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技科大、2.オーエスジー（株）)
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